随着大规模集成电的发展，集成度的不断提高，线宽的不断减小，对硅片的质量要求也越来越高，特别是对硅抛光片的表面质量要求越来越严。这主要是因为抛光片表面的颗粒和金属杂质沾污会严重影响器件的质量和成品率，对于线兆DRAM器件，影响电的临界颗粒尺寸为0.06μm，抛光片的表面金属杂质沾污应全部小于5×1016at/cm2，抛光片表面大于0.2μm的颗粒数应小于20个/片。

　　零部件清洗机技术不断提高，越来越多地向系统专业化。所以，专业化的高压清洗机是什么？专业化是指所谓的高压清洗机清洁生产工作人员结构科学、 细致、 复杂的过程是一个比较合理的总结的技术，只需清洗技术的专业化、 应用设备和研究专业化。当用高压清洗机清洗，我们错误地认为，较高压力垫圈压力调节，清洗效果较好。通常使用的高压，组件属性和装置密封要求，则也会相应增加，所以这种方式，它可能导致清洁费，因此，高压水射流清洗，不压力越高越好。另外，一旦压力过高，当洗衣机喷射到干净的表面，是可能会导致扑通一声，不利结果的清洁，这将抵消水压力的影响，也可以使水雾化，不仅导致效率降低的清洗，以及清洗效果不是很好。清洁污垢地带，洗净，和达到清洁表面的目的。高压清洗机低成本，高清洗效率，保持工作的，防止事故的发生，设备简单。因为清洗机利用高压水射流清洗污垢，所以高压力清洗是世界的科学的、 经济的、 友好型的清洗方法。

　　清洗设备正向着小型化、非盒式化及一次完成化(所有清洗与干燥步骤在一个槽内进行)方向发展，以减少工艺过程中带来的沾污，满足深亚微米级器件工艺的要求。这无论对清洗工艺还是对清洗设备都是一个极大的挑战，衢州求购自动超声波清洗机传统的清洗方法已不能满足要求。臭氧水、兆声波、电解离子水等的应用显示出很好的去除硅片表面颗粒和金属沾污的能力，对硅片表面微观态的影响很小。

　　始终信誉,客户至上,以诚相待,薄利多销的经营旨,产品销往国内十六省市。以信誉求发展，以质量存是我们的长期旨，多年以来深受广大用户青睐。

　　本实用新型的目的是这样实现的电机带动的微型泵从一个存储清洗液的容器中将过滤后的清洗液抽出，在微型泵输出管口连接一个小孔喷头，清洗液流经输出管后，遇到小孔喷头，由于管径变小，使输出管内的清洗液产生高压，由喷头喷出；待洗零部件和喷头均置于一个可密闭容器中，可密闭容器下部设置一小管与存储清洗液的容器相接，此容器设置在可密闭容器底以下，这样可密闭容器里已用过的清洗液便可流进存储容器中，使清洗液得以循环使用。

　　由于采用上述方案，喷头喷射出的高压清洗液，可以将零部件特别是其特殊部位冲洗干净，提高了清洗质量；清洗液经过过滤后循环使用，节约了清洗液；在可密闭容器中进行清洗，防止了清洗液乱溅；以电为动力提高了效率。

　　由于水的潜热是溶剂的10倍，因此水基清洗很难彻底烘干机械零件。衢州求购自动超声波清洗机而溶剂的潜热只有水的10%，这也就了溶剂清洗的快速高效以及防止锈斑的产生。节能和高效--由于清洗舱的真空技术的应用降低了沸点，在蒸馏过程中剩余部分的热能了即时的气化，从而可以提高效率，达到每小时10次洗涤循环。环保--有机溶剂大的缺点是空气污染，但使用了全封闭的清洗系统以后，这些污染可以被有效地控制。